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研究用高純度シリコンウェハー 3×N型その他 aso 2-960-14 医療・研究用機器

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商品情報

●商品名研究用高純度シリコンウェハー 3×N型 ●広告文責：株式会社コール・ミー　03-3533-9699 ●医療機具登録番号●型番●JAN 4582619665994 ●メーカー名その他 ●定価￥ 8700 ●特徴 ●研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供 ●仕様 ●サイズ（インチ）×伝導型：3×N型●OF長さ（mm）×ウェハー厚（μm）：22.5±2.5×380±25●入数：1枚●製造方法：CZ法●面方位：100●OF位置：110●抵抗値：0.1〜100Ω・cm※低抵抗：≦0.02Ω・cm、高抵抗：≧500Ω・cm●パーティクル：パーティクル不問●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。●方位（切断角度）、OF位置角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。●多様な形状加工と表面処理が可能です（例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー）。●ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。●8

　●商品名研究用高純度シリコンウェハー 3×N型●型番●JAN 4582619665994 ●メーカー名その他 ●定価￥8700 ●特徴●研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供 ●仕様 ●サイズ（インチ）×伝導型：3×N型●OF長さ（mm）×ウェハー厚（μm）：22.5±2.5×380±25●入数：1枚●製造方法：CZ法●面方位：100●OF位置：110●抵抗値：0.1〜100Ω・cm※低抵抗：≦0.02Ω・cm、高抵抗：≧500Ω・cm●パーティクル：パーティクル不問●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。●方位（切断角度）、OF位置角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。●多様な形状加工と表面処理が可能です（例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー）。●ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。●8インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください（最低単位25枚）。",

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